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第443章 國產聯名 聲援

2025-12-20 作者:打工人在春城

阿斯麥、尼康等光刻機巨頭的官方賬號雖未直接發聲,但旗下高管的帖子、行業分析師的解讀報告已形成圍剿之勢。

他們字裡行間都在渲染“深藍半導體技術威脅論”,暗示其光刻機存在“專利侵權”“效能未經驗證”等問題。

海外巨頭顯然是鐵了心要將深藍半導體扼殺在搖籃裡,一邊切斷部件供應,一邊發動輿論抹黑,雙管齊下試圖摧毀市場信任。

不過,此時的輿論還都在網路上,並沒有登入正規媒體。

當然,輿論在發酵,被大媒體關注也只是時間問題。

“老一套手法,毫無新意!”楚千瀾嗤笑一聲,便不再關注。

雙方立場不同,爭端已經不可避免,但深藍半導體短時間不可能邁入海外市場,也沒有必要與對方爭奪海外輿論市場的主導權。

隨著時間推移,海外圍剿的訊息順著科技媒體的報道、行業社群的討論,迅速蔓延至國內。

第二天一早,《半導體芯科技》率先刊發深度分析,標題直指核心《海外巨頭聯手絞殺!深藍半導體光刻機遭遇供應鏈封鎖與輿論圍剿》。

文中詳細梳理了阿斯麥、尼康等企業的隱性施壓,以及國外部件供應商的集體斷供行為。

不過,文章中沒有任何確切證據,只有海外社交媒體的一些論文截圖。

即便如此,依舊在國內網路引起不小的震動。微博、論壇等平臺的相關話題討論量呈爆炸式增長。

“海外巨頭也太狠了!國內剛研發出45奈米光刻機,他們就要聯合絞殺,這是怕我們打破壟斷啊!”

“這訊息是真的還是假的?那文章裡的證據著實沒有說服力,還是等兩天再看吧!”

“深藍半導體的供應鏈不會真出問題吧?國內替代部件能跟上嗎?”

“心疼深藍半導體!自主研發好不容易有了突破,就被這麼針對性打壓,資本的嘴臉太難看了!”

“之前還以為深藍半導體研發出45奈米光刻機是炒作,現在看國外巨頭的反應,已經可以確定,這訊息是真的了!”

……

網路上的討論愈發熱烈,質疑與擔憂交織,少數別有用心的水軍藉機散佈“深藍半導體技術造假”“國產替代必敗”的負面言論,試圖進一步擾亂市場信心。

就在輿論陷入混沌之際,四家國內企業幾乎同時釋出公告,引爆全網。

恆川機械在公告中詳細披露,其為45奈米光刻機定製的磁懸浮工作臺、精密機械臂已完成三輪極限測試,重複定位精度達±微米,完全滿足量產要求,首批4套核心部件將於12月25日前交付;

華宇特氣則亮出12種半導體核心特種氣體的檢測報告,純度均突破%,符合生產45奈米晶片要求,已全面供應深藍半導體,替代進口材料;

先鋒晶圓的8英寸矽片良率已穩定在92%,12英寸矽片研發進入收尾階段,將按深藍半導體需求優先順序供貨,確保晶片產能;

寒星材料更是公佈了為極紫外光源定製的特種塗層材料引數,耐高溫、抗腐蝕效能較進口產品提升15%,已實現規模化生產,可隨時響應訂單。

在接下來的半天裡,又有四十餘家國內配套企業密集發聲,他們都是獲得深藍半導體訂單,為光刻機供應核心部件的廠商。

他們的產品從核心機械部件到特種材料,從光學元件到電子模組,全方位印證了深藍半導體生產光刻機的底氣與事實。

隨著國內企業密集發聲,如同一場精準的輿論反擊戰,瞬間扭轉網路上的混亂局面。

恆川機械的磁懸浮工作臺精度資料、華宇特氣的高純氣體檢測報告、先鋒晶圓的矽片良率資料……一份份詳實的證據鏈,如同重錘般擊碎了“技術造假”“國產替代必敗”的謠言。

微博上,“深藍半導體佈局國產光刻機供應鏈”的話題飛速攀升,短短兩小時便衝上熱搜榜首,相關話題閱讀量突破1億。

“太燃了!深藍半導體為了生產光刻機,竟然同時給四十多家企業下訂單!真的無法想象,深藍半導體是如何研發出光刻機的?”

“恆川機械的±微米定位精度,比國外同類產品還強,已經追平國外先進水準,這技術實力絕了!”

“以前總說國產技術不行,現在看看,從核心部件到特種材料,我們也是非常有競爭力的!”

“海外巨頭想卡脖子?沒門!這麼多國內企業兜底,深藍半導體的光刻機量產穩了!”

“那些散佈謠言的水軍可以閉嘴了,事實擺在眼前,國產光刻機不是炒作,是實打實的技術突破!”

……

網路輿論徹底沸騰,國內科技圈、製造業從業者紛紛自發聲援。

某航天領域工程師發帖感慨:“深耕製造業的都懂,±微米的定位精度意味著甚麼。這背後是精密加工、材料科學、控制演算法的全面突破。

深藍半導體能整合這麼多國內企業的頂尖技術,搭建起完整供應鏈,比光刻機本身更值得驕傲!”

水木大學微電子實驗室官微發文:“國產裝置的崛起,讓科研成本大幅降低,更能讓學生接觸到自主核心技術,這才是最有價值的傳承。”

還有網友整理出“國產光刻機供應鏈圖譜”,將恆川機械等四十餘家配套企業的技術亮點一一標註,配文“這不是一家企業的勝利,是整個國產製造業的逆襲”,短短半天轉發量突破10萬。

在全民聲援的熱潮中,深藍半導體的官方公告終於重磅釋出。

公告開篇便直擊核心:“近期,部分海外供應商受國際勢力施壓,無故暫停核心部件供應,企圖阻礙國產光刻機研發程序。但我們早已佈局全國產化替代方案,目前所有關鍵部件均已實現國內自主供應,45奈米光刻機量產不受任何影響。”

公告詳細披露了45奈米光刻產線的核心引數:“整機核心部件國產化率92%,極紫外光源、磁懸浮工作臺等關鍵模組效能對標國際先進水準。”

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