第671章 第二步：覆海！破曉 A220 EUV光刻機，陳總的新籌碼！
八月中旬，阿里巴巴IPO、金陵青奧會、奧氏體304、冰桶挑戰、古劍奇譚和鋒菲複合的熱度最高，
讓網友們滿心疑惑的是，陳延森就像憑空銷聲匿跡了似的，完全是一副查無此人的狀態。
距他上一次公開露面，還是月初時，參加橙子幼兒園的剪彩儀式。
“學前教育行業的勢力這麼大嗎？連前幾天的商界領袖峰會，森哥都沒參加。”
“我聽說陳延森被人打了黑槍，現在還在滬城六院躺著呢！”
“不對啊，我聽到的版本是陳總買賣愛情的時候被抓了，最少得關半個月！”
“666！樓上的哥們，你當森聯資本的1000多名法務是擺設啊？等著收律師函吧！”
“笑死，刪帖速度挺快呀！這是森聯資本出手了，還是他自己怕了？”
“森哥早被人暗殺了！下個月要是有他的公開露面，那肯定是替身！”
就在陳延森忙著推進EUV光刻機的研發進度時，網上關於他的謠言卻越傳越離譜。
據不完全統計，在網友的嘴裡，陳延森的死法包括但不僅限於槍殺、被車撞、遭毒殺、溺水身亡等。
最終還是森聯資本法務部聯合微博、今日頭條、鬥音、快手和微信等多家平臺，才把造謠的聲音給壓了下去。
而陳延森則在一週之內，就接到了老陳的三通電話，在確定自家兒子沒事後，扭頭便化身闢謠戰士，跑到網上跟散佈謠言的網友直接對線。
陳延森得知後，倒也沒有阻攔。
畢竟和人吵架，也能預防老年痴呆。
時間轉瞬即至，來到8月23日的傍晚。
盛夏的晚風，將星源科技研發中心的香樟樹吹得枝葉婆娑，沙沙作響。
最裡層的核心實驗室，此刻卻亮如白晝，空氣裡瀰漫著一種近乎凝固的熾熱。
時間的概念被恆定的溫度和溼度所模糊，唯一能感受到的流逝，是控制室螢幕上跳動的數字。
陳延森穿戴整齊，裹得嚴嚴實實，與梁勁松、林南、汪象朝和章延傑等人站在控制檯前，透過厚重的抗輻射玻璃，凝視著眼前的龐然大物。
儘管這臺EUV光刻機只是Alpha樣機，但金屬機身在冷光燈下泛著精密的銀輝，數不清的管線如脈絡般纏繞，核心腔室的觀察窗透出淡紫色的微光。
EUV光源、光學系統和雙工件臺的技術天塹，竟被他們一個接一個地成功攻克。
大廳裡異常安靜，只能聽到通風系統低沉的嗡鳴。
工程師們穿著全套無塵潔淨服，像手術室裡的醫生，在裝置周圍輕緩走動，進行著最後的檢查。
“老闆，各分系統自檢完畢，真空機組隨時可以啟動。”
林南的聲音略帶沙啞，衝著陳延森彙報道。
陳延森點了點頭道：“按計劃執行，逐步建立光路真空。”
命令下達後，控制室內的氣氛瞬間繃緊。
巨大的真空泵組開始工作，發出低沉的咆哮。
顯示屏上，代表光路內部真空度的數字，呈現斷崖式的下跌趨勢： Pa、 Pa、1 Pa，向著高真空邁進。
所有人的心都提到了嗓子眼！
極致的真空環境是EUV光源傳輸的前提，任何一個微小的洩漏，都會導致前功盡棄。
不知過了多久！
汪象朝突然大聲喊道：“真空度穩定在06帕斯卡！已達預設值！”
控制室內響起一陣輕微的、剋制的騷動，有人輕輕握了握拳。
第一步，成功了！
為甚麼EUV光刻機的光源系統、主腔體中的照明光學系統、成像光學系統、晶圓平臺模組、掩模搬運模組和晶圓搬運模組都得處於真空環境下？
這是因為EUV光波長極短，極易被包括空氣在內的所有物質吸收。
在真空環境中，可最大限度減少氣體分子對EUV光的吸收和散射，從而確保光源能量能有效傳輸至後續光學系統。
若處於非真空環境，EUV光會在傳輸過程中大幅衰減，無法滿足光刻所需的能量強度。
這一模組的核心技術，是由章延傑牽頭，聯合幾十名瀋陽光機所的工程師共同攻關拿下的。
因此，他比任何人都緊張，生怕出現紕漏，拖了團隊的後腿。
“啟動光源預熱，功率設定為最低檔位。”
陳延森語氣平靜地宣佈下一道指令。
令人緊張的時刻到來！
這是星源科技馴服的第一頭猛獸——磁約束放電激發等離子體光源（MCDE-EUV光），即將被喚醒！
如果一切正常，它將用“電磁場”代替“鐳射”作為激發和約束等離子體的手段，進而獲得微弱的、波長為13.5奈米的極深紫外光。
時間一分一秒地過去。
主監控屏上，一個原本平坦的基線，微微跳動了一下。
隨後，一個雖然微弱但清晰可辨的訊號峰值，頑強地升了起來！
“有訊號了！”一名年輕的研究員忍不住地喊了出來，聲音因激動而變得有些失真。
大家心裡清楚！
第一臺EUV光刻機對華國的重大戰略意義！
幾乎在同一時間，位於光路末端的EUV功率探測器，傳回了第一條資料：107瓦！
一個在ASML看來早已被甩在身後的數字，此刻卻讓整個控制室陷入了短暫的寂靜，隨即爆發出巨大的歡呼聲！
許多人下意識地擁抱在一起，眼眶瞬間紅了。
林南感覺自己的手都在微微顫抖，於是緊緊抓住欄杆，強迫自己冷靜下來。
陳延森倒是心態平穩，他抬手壓了壓，控制室裡的歡呼聲很快平息。
“提高功率檔位！”陳延森繼續說道。
EUV光刻機的功率直接決定單位時間內的晶圓處理數量，每一次曝光都需足夠的EUV光能量觸發光刻膠的光化學反應。
若光源功率低，需延長單次曝光時間或增加脈衝次數，才能滿足能量需求，導致單晶圓處理時間變長。
比如200W功率的機型每小時可處理約125片晶圓，而250W機型可提升至每小時170片，產能提升近40%。
技術差一點，就是差了一大截！
而且功率越高，單位晶圓的光刻成本就越低，規模化優勢就越強。
聞言，林南立刻收斂心神，右手在控制檯上快速滑動，目光緊盯著功率調節介面：“收到！當前目標檔位220瓦，升壓速率已調至安全閾值，避免等離子體不穩定。”
控制檯螢幕上，代表光源功率的數字開始緩慢爬升，每一個數值的跳動，控制室內的呼吸聲就跟著沉重一分。
137瓦、168瓦、214瓦……
當數字穩穩停在220瓦時，林南立即看向一旁的光源穩定性監測曲線。
那條代表等離子體約束狀態的綠色線條，始終保持著平穩的波動，沒有出現任何異常的尖峰或驟降。 系統執行穩定！
“功率穩定在220瓦！等離子體約束狀態良好，沒有出現能量洩漏！”
林南的聲音比剛才響亮了幾分，緊繃的肩膀也稍稍放鬆了一些，臉上綻放出一抹旁人看不見的燦爛笑容。
作為國產第一臺EUV光刻機的核心研發人員，那是妥妥能登上教科書、評院士、留名青史的人。
他連忙深吸了一口氣，強行控制住自己的情緒。
陳延森微微頷首，轉頭看向章延傑：“光學系統同步適配，檢查光束勻化效果。”
章延傑立馬調出照明光學模組的實時資料，螢幕上彈出一組光束截面分佈圖。
淡紫色的光斑均勻地覆蓋在模擬掩模區域，邊緣沒有出現絲毫能量衰減的陰影。
“陳老師，光束勻化度99.2%，符合220瓦功率下的光學適配要求，成像光學系統已完成自動對焦校準！”
章延傑揚聲回應道。
這一次，控制室內的騷動比方才更加明顯。
有人悄悄抹了把眼角，還有人用拳頭輕輕捶了下桌面。
從107瓦到220瓦，不僅僅是數字的提升，更是證明他們的MCDE-EUV光源既能“點亮”，也能在更高功率下保持穩定，這意味著量產的可能性又近了一步。
功率是制約工藝節點的重要因素！
製程微縮需實現更小的線寬和間距，要求EUV光具備更高的光學對比度，而功率是對比度的核心支撐。
220瓦的穩定功率，足以滿足7奈米制程的晶片生產所需。
陳延森嗯了一聲，接著吩咐道：“準備晶圓臺與掩模臺同步測試，載入測試晶圓，按28奈米制程引數設定曝光程式。”
汪象朝馬上響應：“測試晶圓已透過機械臂送入預對準工位，掩模臺已載入28奈米標準電路掩模版，同步精度校準中。”
頃刻間，眾人的視線重新聚焦在主監控屏上。
螢幕被分成了四個畫面：左上角是光源功率與等離子體狀態，右上角是光學系統的光束分佈，左下角是晶圓臺的實時座標，右下角則是掩模臺的運動軌跡。
隨著汪象朝按下按鈕，兩個精密平臺迅速移動，它們的運動軌跡像兩條精準咬合的齒輪，每一次微調都控制在0.1奈米以內。
“同步精度奈米！已達預設標準！”
汪象朝說道。
陳延森看了一眼時間，此刻是晚上8點37分，距離真空泵啟動已經過去了半個多小時。
他俯下身子，對著麥克風，向實驗室的工作人員叮囑道：“曝光開始，單次曝光時間設定為0.5秒，記錄所有引數。”
核心腔室的觀察窗內，淡紫色的微光驟然亮了一下，旋即恢復柔和。
光路末端的探測器瘋狂重新整理著資料，螢幕上跳出一行行代表“曝光能量密度”、“線寬均勻度”、“圖形套刻精度”的數值。
每一個數字都在朝著合格的方向靠近！
0.5秒的時間，卻像一個世紀那麼漫長。
當曝光完成的提示音在控制室內響起時，汪象朝立刻操控機械臂將測試晶圓移出，送往檢測室。
一行人都跟了過去，連腳步都變得急促起來。
在精密的EUV掩模版檢測儀下，當第一張晶圓的光刻圖案清晰顯示在螢幕上時，現場徹底沸騰了。
線條細如蛛絲，卻沒有一絲斷裂或模糊，每一個電晶體的輪廓都精準得如同復刻。
光刻機的執行原理就像印刷機，又像照相機，只不過它所運用的‘畫筆’和‘畫板’都更為精細。
“成了！真的成了！”
汪象朝喃喃低語，雙手在發抖，嘴裡發出‘呵呵呵’的笑聲，壓抑中帶著亢奮。
不一會兒，笑聲變得嗚咽。
他今年五十九歲，在EUV光源領域已經摸爬滾打了大半輩子。
曾經的他，眼看著自己的人生快要走到盡頭，連EUV光源的技術突破也漸漸看不到希望，心裡滿是無力。
可誰曾想，星源科技會在這時橫空出世，不僅打破了僵局，更給華國自主研發光刻機帶來了全新的希望。
如今造出了EUV光刻機和燭龍 G1051五軸聯動數控機床，往後華國晶片產業和高階製造業，總算不用再看別人臉色了！
汪象朝抹了把臉，想把激動的淚水憋回去，可嘴角卻控制不住地往上揚，最後索性也不掩飾，任由淚水順著臉頰往下淌。
這眼淚裡，有大半輩子的遺憾，更有苦盡甘來的暢快。
林南見狀，拍了拍他的肩膀，溫言勸慰道：“汪工，咱們沒白等，也沒白乾！”
站在人群裡的梁勁松一臉唏噓，他暗暗打量著陳延森，默默給出評價：妖怪級別的天才！
要知道，世界上大部分的技術突破，都需要一代人、甚至是幾代人的積累，可陳延森硬是在二線的技術棧上，拿出了行業頂尖的方案。
220瓦、解析度小於12奈米、數值孔徑的光學設計，每平方厘米可容納約800億個電晶體，絕對可以支援10奈米和7奈米節點的EUV量產需求。
陳延森微微一笑，這臺EUV光刻機便是他的新籌碼。
畢竟森聯資本涉足的行業越廣，樹敵就越多，若是拿不出像樣的壓箱底本事，又如何能獲得上面的全力支援？
另外，一臺光刻機的售價高達5000萬到9000萬美幣，能夠創造巨大的經濟利益。
而且陳延森還能借此培養一批生產、安裝、養護和維修的工作人員，進而獲得更多的人道薪火。
不過，Alpha樣機僅適用於內部測試，並不具備實際流片測試的條件，後續還得推出Beta樣機，即產品釋出前由外部使用者進行測試的裝置。
好在星源科技有自己的生產線，只需經過反覆除錯、修改、迭代，就能逐步推進，最終制造出符合要求的成品光刻機。
“陳老師，給它取個名字吧！”
章延傑提議道。
“黑暗已逝，破曉乍現！就叫破曉 A220吧。”
陳延森想了想說道。
A代表星源科技光刻機的第一條序列，220是它的峰值功率。
與此同時。
李青松在收到訊息後，立馬拿起檔案，急匆匆地朝著南海旁的一座庭院趕去。
(本章完)