第611章 國產光刻機的研發程序，至少縮短了十年！
自從星源科技與華科協會下屬的光電所，聯手研發出了‘磁約束放電等離子體光源’（即MDP）技術後，便開始著手攻克光刻機的第二大技術壁壘——光學系統。
畢竟，單是‘造出光’還不行，還得‘用好這束光’，才能完成晶圓曝光，進而實現晶片的生產製造。
可讓陳延森頓感無奈的是，國內EUV光源激發方式的主流研發方向，基本以鐳射產生等離子體、放電等離子體或者鐳射誘導放電等離子體為主。
而星源科技光學部絕大多數工程師的技能和專案經驗，都與研發需求不匹配。
所以在研發配套光學系統時，進度極為緩慢。
要知道，EUV光幾乎會被所有物質吸收，因此無法使用傳統的玻璃透鏡，整個光路必須在真空環境中使用反射式光學系統。
收集鏡、照明系統、投影物鏡系統、掩膜版和掩膜臺都得設計配套的技術方案。
MDP-EUV光源技術確實走出了一條獨特的新路，但這種創新並非沒有代價。
一切障礙，都要自己去掃平。
陳延森在獲悉光學部的研發進度後，立馬就絕望了。
他心裡清楚，若不給這幫人指條明路，恐怕五年、十年，都沒法往前邁出一步。
不得不說，他高估了林南團隊的水平。
他沒想到，這麼簡單的配套技術方案，林南等人卻在正確的路口邊緣，足足蹭了四五十天，卻無絲毫進展。
於是，陳延森在開發出脈思（Mass）V1.0後，又馬不停蹄地設計出了“多殼層掠入射橢圓收集鏡系統”。
這玩意本質上是一套精密的多層膜鏡子，可以高效捕獲EUV光源，並將其初步聚焦引導至照明系統裡。
難點主要有兩個：收集效率和抗損傷能力。
前者是因為EUV光線是向四面八方發散的，若想提升收集效率，就得設計複雜的多鏡拼接結構，同時保證每片鏡子的角度校準精度都要達到微米級。
然而，任何角度上的偏差都會導致光線漏失，從而影響到收集效率。
後者是因為等離子光源被激發後，會產生極高的溫度，這就需要超強的抗損傷能力。
收集效率要求多層膜具備“薄、勻、純、無遮擋”等特性，以最大化反射率和角度適配性。
而抗損傷能力要求多層膜又得“厚、硬、耐侵蝕”，必須增加額外保護層的材料。
聽起來很矛盾，但這也正是收集鏡的技術難點所在。
陳延森設計的這套“多殼層掠入射橢圓收集鏡系統”，便很好地平衡了收集效率與抗損傷能力。
不僅能夠高效捕獲由高功率脈衝放電、轟擊金屬錫靶產生的13.5奈米EUV光，還能將其匯聚到遠處的中間焦點，為後續的照明系統提供足夠功率且均勻的光束。
與此同時。
林南很快就發現了這封加密郵件，在開啟技術文件後，先匆匆掃了一眼，接著就愣在了原地。
老闆發來的這套方案太完整了，從光學設計的構型、入射角，再到基底材料、反射塗層、熱管理子系統和電磁場碎屑減緩系統，甚至連鍍膜工藝的參數列、誤差校準的演算法模型都附帶在內。
此前光學部爭論了半個月的“多鏡拼接角度偏差”問題，文件裡直接給出了“鐳射干涉實時校準”的解決方案，就連校準用的鐳射波長、取樣頻率都標註得一清二楚。
林南猛地站起身，聲音都有些發顫：“這簡直是把答案寫了出來！”
技術文件裡沒署名，這套技術是老闆買來的、搶來的，還是說除了星源科技光學部，森聯資本其實另有研發實驗室？
林南坐在工位上，忍不住胡思亂想著。
上次MDP-EUV光源技術的事，他就問過樑勁松和陳延森。
梁勁松一頭霧水，陳延森則讓他別瞎打聽，他也只能把滿肚子好奇壓在心底。
可這一次，他又按捺不住了。
實在是“多殼層掠入射橢圓收集鏡系統”的技術太強了，完全是一套完整且成熟的技術方案，由不得他不多想。
林南沉吟半晌，最後苦笑了一聲，捏著手機的右手重新放下。
他知道有些問題，別人不想說，就代表不能說，或者說根本沒有答案。
隨後，他連忙召集核心研發人員開會。
會議室內，當大家看到文件中“多殼層橢圓結構”的三維模型時，原本沉悶的氣氛瞬間沸騰。
光學系統設計組的主任工程師指著螢幕說道：“內層鏡負責捕獲中心60度範圍內的EUV光，中層鏡覆蓋60到120度，外層鏡補全120到180度，這樣收集效率至少能提升到80%，壓根就沒法比，我們之前的那套方案跟垃圾有甚麼區別？”
更讓眾人驚喜的是熱管理子系統！
文件中提出在鏡體內部嵌入微通道水冷結構，搭配耐高溫的鉬錸合金基底，既能承受等離子體的高溫衝擊，又能避免溫度過高導致多層膜脫落。
“我們最擔心的‘高溫損傷’問題，這套方案竟然連水冷通道的直徑、水流速度都算好了！”
材料組的工程師翻到工藝引數頁，激動地說道。
“對了，林工！這個梯度塗層的方案，從鉬矽多層膜到二氧化矽保護層，每層的厚度誤差控制在0.1奈米以內，還得用脈衝鐳射沉積法分80次沉積，這精度咱們的裝置能達到嗎？”
有人面露難色地擔憂道。 林南皺起眉頭，看向裝置組的主任工程師問道：“蔡司鍍膜機在恆溫恆溼環境下，能不能把精度穩定控制在到0.1奈米之間？”
裝置組的主任工程師想了想，非常嚴謹地回答道：“連續沉積10層鉬矽膜，厚度誤差最小奈米，最大奈米，剛好能滿足方案要求。
但問題是，每次換靶材、調整鐳射功率時，誤差會出現到奈米的波動，80次沉積下來，累積誤差可能會超標。”
林南思索片刻，給了一條解決思路：“那就加一道實時校準的流程，演算法組先開發一套膜厚監測程式，跟鍍膜機的感測器聯動，每沉積10層，就自動暫停，用電子顯微鏡掃描膜厚。
根據實測資料調整下一輪的鐳射功率和沉積時間，把單次誤差控制在奈米以內。
另外，在鍍膜機周圍加一圈恆溫罩，避免溫度的負面影響。”
其他人聞言，頓時豁然明悟。
林南畢竟是滬城光學精密機械研究所的高階工程師，能力和技術兼而有之，又是胡銳暉極力推薦的人才，關鍵時刻能拿出行之有效的方案倒也正常。
事實上，在陳延森看來，像林南等人，智商、領悟力和創造力都不錯，但苦於接觸不到EUV光學的頂尖技術，這才像是鬼打牆似的，一直繞彎路。
若是能擁有同等的科研環境，林南未必開發不出一套收集鏡系統，可很多事終究沒有如果。
而陳延森能搞定這項技術，靠的也是遠超常人百倍的精神力，以及能讓他進入超頻思維狀態的【普朗克時鐘】天賦。
不然以他原本的能力，或許也能突破這項技術，但要花費的時間，絕對不止半個月。
在拿到“多殼層掠入射橢圓收集鏡系統”的技術方案後，星源科技光學部上下，立刻投入全部精力，以最快的速度反覆打磨、全力復現，力求將這套系統成功應用到實際生產中。
演算法組連夜加班，三天內就完成了膜厚監測程式的開發。
該程式可以實時採集鍍膜機的鐳射功率、沉積時間資料，還能自動生成膜厚誤差曲線，當誤差超過奈米時，將會觸發暫停指令，進而對精度進行實時校準。
由於研發中心還有大量光電所的工程師，所以科學協會的大佬們，沒過多久就得知了星源科技的技術突破。
“老胡，你幫我問問，星源科技還缺不缺人？”
滬城光學精密機械研究所的汪象朝，主動撥通了胡銳暉的電話，支支吾吾地說道。
“甚麼意思？你想辭職？開甚麼玩笑！”
胡銳暉反問道。
汪象朝可是滬城光學精密機械研究所的中流砥柱，主要的研究方向都在EUV光源領域，前後申請了170餘項專利，妥妥的行業大牛。
“老胡啊，星源科技連自研的收集鏡系統都弄出來了，你知道這意味著甚麼嗎？再往下走，光源系統就能徹底打通，一旦完成雙工件臺的研發工作，第一臺國產EUV光刻機就有了技術根基，你明白嗎？”
汪象朝拿著電話，接連問道。
“老汪，你都一把年紀了……”
胡銳暉幽幽說道。
“放屁！六十歲，正是拼搏的年紀！算了，我還是找林南吧，不管怎麼說，我也是他的老領導。”
汪象朝見胡銳暉推三阻四的樣子，瞬間氣不打一處來。
按理說，他找林南更方便，卻有點抹不開面子。
“這套系統的影響力有這麼大嗎？”
胡銳暉是晶片設計工程師，對EUV光刻技術自然瞭解，但僅限於表面。
比如一個人吃過蛋糕，也知道這玩意是用哪些材料製作的，但製作步驟和細節是甚麼，他就不清楚了。
“國產光刻機的研發程序，至少縮短了十年！”
汪象朝語氣篤定地給出評價。
胡銳暉深知汪象朝性格嚴謹，絕不會信口開河，他深吸一口氣，終於意識到星源科技的變態之處。
訊息層層上報，一份詳盡的調查檔案，迅速遞到了李青松的辦公桌上。
“保密管控，再把光學、雙工件臺和調平調焦領域的科研人員，抽調一部分送去星源科技。”
研討會是上午開的，決議是當天生效的。
國產EUV光刻機的誘惑力太大了！
只要參與其中，便能從中撈取一份足以載入史冊的功績，這種機會，誰也不願錯過。
李青松的決議下達後，全國範圍內的科研資源開始向星源科技匯聚。
三天後，來自滬城光學精密機械研究所、華科協會瀋陽自動化所、國防科大等協會的87名專家陸續抵達廬州。
既有汪象朝這樣深耕EUV領域數十年的行業泰斗，也有在雙工件臺、調平調焦系統研發中嶄露頭角的青年骨幹。
就連華卓精科所掌握的65奈米制程雙工件臺技術，都被送去了滬城。
(本章完)